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    Titel:

    A new modular multichamber plasma enhanced chemical vapor deposition system

    Beteiligte:

    Madan, A. (Autor:in) / Rava, P. (Autor:in) / Schropp, R. E. I. (Autor:in) / Von Roedern, B. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 70/71 ; 716

    Erscheinungsdatum:

    01.01.1993

    Format / Umfang:

    716 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Unbekannt

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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