The relationship between the MOCVD parameters and the crystallinity, epitaxy, and domain structure of PbTiO~3 films: Fid-Bau Portal

The relationship between the MOCVD parameters and the crystallinity, epitaxy, and domain structure of PbTiO~3 films

Bai, G. R. / Chang, H. L. M. / Foster, C. M. / Shen, Z.

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Titel:

The relationship between the MOCVD parameters and the crystallinity, epitaxy, and domain structure of PbTiO~3 films

Beteiligte:

Bai, G. R. (Autor:in) / Chang, H. L. M. (Autor:in) / Foster, C. M. (Autor:in) / Shen, Z. (Autor:in)

Erschienen in:

JOURNAL OF MATERIALS RESEARCH -PITTSBURGH- ; 9 ; 156

Erscheinungsdatum:

01.01.1994

Format / Umfang:

156 pages

ISSN:

0884-2914

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Unbekannt

Klassifikation:

DDC: 620.11

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