Chemical vapour deposition of diamond from a novel capactively coupled r.f. plasma source: Fid-Bau Portal

Chemical vapour deposition of diamond from a novel capactively coupled r.f. plasma source

Jackman, R. B. / Beckman, J. / Foord, J. S.

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Titel:

Chemical vapour deposition of diamond from a novel capactively coupled r.f. plasma source

Beteiligte:

Jackman, R. B. (Autor:in) / Beckman, J. (Autor:in) / Foord, J. S. (Autor:in) / Fricke, K. / Krozer, V.

Erschienen in:

High Temperature Electronics: Materials Devices Applications ; 216

MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING -LAUSANNE- B ; 29

Erscheinungsdatum:

01.01.1995

Format / Umfang:

216 pages

ISSN:

0921-5107

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Unbekannt

Klassifikation:

DDC: 620.11

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