SiO~2 film deposition by XeCl laser ablation of fused silica: Fid-Bau Portal

SiO~2 film deposition by XeCl laser ablation of fused silica

Baeri, P. / Reitano, R. / Marino, N.

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Titel:

SiO~2 film deposition by XeCl laser ablation of fused silica

Beteiligte:

Baeri, P. (Autor:in) / Reitano, R. (Autor:in) / Marino, N. (Autor:in) / Dieleman, J. / Biermann, U. K. P. / Hess, P.

Erschienen in:

Photon-Assisted Processing of Surfaces and Thin Films ; 128

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 86

Erscheinungsdatum:

01.01.1995

Format / Umfang:

128 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Unbekannt

Klassifikation:

DDC: 621.35

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