Fachinformationsdienst BAUdigital

Eine Plattform für die Wissenschaft: Bauingenieurwesen, Architektur und Urbanistik

    Growth of the thin film Cd-Si-As system by metalorganic chemical vapor deposition

    Neue Suche nach: Kayama, H.
    Neue Suche nach: Noda, Y.
    Neue Suche nach: Furukawa, Y.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Seitennavigation

    Dokumentinformationen
    Ähnliche Titel

    Exportieren, teilen und zitieren

    Growth of the thin film Cd-Si-As system by metalorganic chemical vapor deposition

    Neue Suche nach: Kayama, H.
    Neue Suche nach: Noda, Y.
    Neue Suche nach: Furukawa, Y.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Growth of the thin film Cd-Si-As system by metalorganic chemical vapor deposition

    Neue Suche nach: Kayama, H.
    Neue Suche nach: Noda, Y.
    Neue Suche nach: Furukawa, Y.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Seitennavigation

    Dokumentinformationen
    Ähnliche Titel

    Exportieren, teilen und zitieren

    Dokumentinformationen
    Titel:

    Growth of the thin film Cd-Si-As system by metalorganic chemical vapor deposition

    Beteiligte:

    Kayama, H. (Autor:in) / Noda, Y. (Autor:in) / Furukawa, Y. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 92 ; 142-146

    Erscheinungsdatum:

    01.01.1996

    Format / Umfang:

    5 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

    Ähnliche Titel

    Metalorganic chemical vapor deposition of SrRuO3 thin film and its characterization

    Lee, H. C. / Tsai, D. S. | British Library Online Contents | 2003

    Plasma-assisted metalorganic chemical vapor deposition growth of ZnO thin films

    Losurdo, M. / Giangregorio, M. M. / Sacchetti, A. et al. | British Library Online Contents | 2006

    Plasma-Enhanced Metalorganic Chemical Vapor Deposition for High Temperature Superconducting Thin Film

    Ebihara, K. / Ikegami, T. | British Library Online Contents | 1993

    Growth of ZnSe thin films by metalorganic chemical vapor deposition using nitrogen trifluoride

    Noda, Y. / Ishikawa, T. / Yamabe, M. et al. | British Library Online Contents | 1997

    c-axis lithium niobate thin film growth on silicon using solid-source metalorganic chemical vapor deposition

    Lee, S. Y. / Feigelson, R. S. | British Library Online Contents | 1999

    Nach oben