Low pressure MOCVD of TiN thin films: Fid-Bau Portal

Low pressure MOCVD of TiN thin films

Kim, S. W. / Jimba, H. / Sekiguchi, A. / Okada, O. / Hosokawa, N.

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Titel:

Low pressure MOCVD of TiN thin films

Beteiligte:

Kim, S. W. (Autor:in) / Jimba, H. (Autor:in) / Sekiguchi, A. (Autor:in) / Okada, O. (Autor:in) / Hosokawa, N. (Autor:in) / Feldman, L. C. / Nishizawa, J. / Van der Weg, W. F.

Erschienen in:

A journal devoted to applied physics and chemistry of surfaces and interfaces ; 546-550

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 100/101

Erscheinungsdatum:

01.01.1996

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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