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    Titel:

    Atomically flat, ultra thin-SiO~2/Si(001) interface formation by UHV heating

    Beteiligte:

    Niwa, M. (Autor:in) / Okada, K. (Autor:in) / Sinclair, R. (Autor:in) / Feldman, L. C. / Nishizawa, J. / Van der Weg, W. F.

    Erschienen in:

    A journal devoted to applied physics and chemistry of surfaces and interfaces ; 425-430

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 100/101

    Erscheinungsdatum:

    01.01.1996

    Format / Umfang:

    6 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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