Growth kinetics of nanoscale SiO~2 layer in a nitric oxide (NO) ambient: Fid-Bau Portal

Growth kinetics of nanoscale SiO~2 layer in a nitric oxide (NO) ambient

Fukuda, H. / Koyama, N. / Endoh, T. / Nomura, S.

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Titel:

Growth kinetics of nanoscale SiO~2 layer in a nitric oxide (NO) ambient

Beteiligte:

Fukuda, H. (Autor:in) / Koyama, N. (Autor:in) / Endoh, T. (Autor:in) / Nomura, S. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 113/114 ; 595-599

Erscheinungsdatum:

01.01.1997

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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