Diamond growth by hollow cathode arc plasma chemical vapor deposition: Fid-Bau Portal

Diamond growth by hollow cathode arc plasma chemical vapor deposition

Liang, G.-T. / Hong, F. C.-N.

Zugriff

Zugriff über TIB

Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen

Bestellung bei Subito €

Seitennavigation

Dokumentinformationen

Ähnliche Titel

Exportieren, teilen und zitieren

Diamond growth by hollow cathode arc plasma chemical vapor deposition

Liang, G.-T. / Hong, F. C.-N.

Diamond growth by hollow cathode arc plasma chemical vapor deposition

Liang, G.-T. / Hong, F. C.-N.

Zugriff

Zugriff über TIB

Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen

Bestellung bei Subito €

Seitennavigation

Dokumentinformationen

Ähnliche Titel

Exportieren, teilen und zitieren

Dokumentinformationen

Titel:

Diamond growth by hollow cathode arc plasma chemical vapor deposition

Beteiligte:

Liang, G.-T. (Autor:in) / Hong, F. C.-N. (Autor:in)

Erschienen in:

JOURNAL OF MATERIALS RESEARCH -PITTSBURGH- ; 13 ; 3114-3121

Erscheinungsdatum:

01.01.1998

Format / Umfang:

8 pages

ISSN:

0884-2914

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

Liou, Y. | British Library Online Contents | 1996

Rheotaxial diamond growth by chemical vapor deposition

Fang, P. H. / Hou, L. | British Library Online Contents | 2000

Growth of diamond thin films by microwave plasma chemical vapor deposition process

Barshilia, H. C. / Mehta, B. R. / Vankar, V. D. | British Library Online Contents | 1996

Characterization of TiOx film prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition using a multi-jet hollow cathode plasma source

Nakamura, M. / Korzec, D. / Aoki, T. et al. | British Library Online Contents | 2001

Diamond growth on thin Ti wafers via chemical vapor deposition

Chen, Q. / Lin, Z. | British Library Online Contents | 1995

Nach oben