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Deposition of tantalum oxide films by ArF excimer laser ablation

Nishimura, Y. / Shinkawa, A. / Ujita, H. / Tsuji, M. / Nakamura, M.

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Titel:

Deposition of tantalum oxide films by ArF excimer laser ablation

Beteiligte:

Nishimura, Y. (Autor:in) / Shinkawa, A. (Autor:in) / Ujita, H. (Autor:in) / Tsuji, M. (Autor:in) / Nakamura, M. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 136 ; 22-28

Erscheinungsdatum:

01.01.1998

Format / Umfang:

7 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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