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    Titel:

    Programmed substrate temperature ramping to increase nucleation density and decrease surface roughness during metalorganic chemical vapor deposition of aluminum

    Beteiligte:

    Jonnalagadda, R. (Autor:in) / Yang, D. (Autor:in) / Rogers, B. R. (Autor:in) / Hillman, J. T. (Autor:in) / Foster, R. F. (Autor:in) / Cale, T. S. (Autor:in)

    Erschienen in:

    JOURNAL OF MATERIALS RESEARCH -PITTSBURGH- ; 14 ; 1982-1989

    Erscheinungsdatum:

    01.01.1999

    Format / Umfang:

    8 pages

    ISSN:

    0884-2914

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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