Nanostructured Thin Films of Organic-Organometallic Block Copolymers: One-Step Lithography with Poly(ferrocenylsilanes) by Reactive Ion Etching: Fid-Bau Portal

Nanostructured Thin Films of Organic-Organometallic Block Copolymers: One-Step Lithography with Poly(ferrocenylsilanes) by Reactive Ion Etching

Lammertink, R. G. / Hempenius, M. A. / van den Enk, J. E. / Chan, V. Z. / Thomas, E. L. / Vancso, G. J.

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Titel:

Nanostructured Thin Films of Organic-Organometallic Block Copolymers: One-Step Lithography with Poly(ferrocenylsilanes) by Reactive Ion Etching

Beteiligte:

Lammertink, R. G. (Autor:in) / Hempenius, M. A. (Autor:in) / van den Enk, J. E. (Autor:in) / Chan, V. Z. (Autor:in) / Thomas, E. L. (Autor:in) / Vancso, G. J. (Autor:in)

Erschienen in:

ADVANCED MATERIALS -DEERFIELD BEACH- ; 12 ; 98-103

Erscheinungsdatum:

01.01.2000

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0935-9648

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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