"Constructive Nanolithography": Inert Monolayers as Patternable Templates for In-Situ Nanofabrication of Metal-Semiconductor-Organic Surface Structures-A Generic Approach: Fid-Bau Portal

"Constructive Nanolithography": Inert Monolayers as Patternable Templates for In-Situ Nanofabrication of Metal-Semiconductor-Organic Surface Structures-A Generic Approach

Maoz, R. / Frydman, E. / Cohen, S. R. / Sagiv, J.

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Titel:

"Constructive Nanolithography": Inert Monolayers as Patternable Templates for In-Situ Nanofabrication of Metal-Semiconductor-Organic Surface Structures-A Generic Approach

Beteiligte:

Maoz, R. (Autor:in) / Frydman, E. (Autor:in) / Cohen, S. R. (Autor:in) / Sagiv, J. (Autor:in)

Erschienen in:

ADVANCED MATERIALS -DEERFIELD BEACH- ; 12 ; 725-731

Erscheinungsdatum:

01.01.2000

Format / Umfang:

7 pages

ISSN:

0935-9648

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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