Successive ionic layer adsorption and reaction (SILAR) method for the deposition of large area (10 cm2) tin disulfide (SnS2) thin films: Fid-Bau Portal

Successive ionic layer adsorption and reaction (SILAR) method for the deposition of large area (10 cm2) tin disulfide (SnS2) thin films

Sankapal, B. R. / Mane, R. S. / Lokhande, C. D.

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Titel:

Successive ionic layer adsorption and reaction (SILAR) method for the deposition of large area (10 cm2) tin disulfide (SnS2) thin films

Beteiligte:

Sankapal, B. R. (Autor:in) / Mane, R. S. (Autor:in) / Lokhande, C. D. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS RESEARCH BULLETIN ; 35 ; 2027-2035

Erscheinungsdatum:

01.01.2000

Format / Umfang:

9 pages

ISSN:

0025-5408

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11 / 620

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