Interfacial layer formation in Gd2O3 films deposited directly on Si(0 0 1): Fid-Bau Portal

Interfacial layer formation in Gd2O3 films deposited directly on Si(0 0 1)

Gupta, J. A. / Landheer, D. / Sproule, G. I. / McCaffrey, J. P. / Graham, M. J. / Yang, K. C. / Lu, Z. H. / Lennard, W. N.

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Titel:

Interfacial layer formation in Gd2O3 films deposited directly on Si(0 0 1)

Beteiligte:

Gupta, J. A. (Autor:in) / Landheer, D. (Autor:in) / Sproule, G. I. (Autor:in) / McCaffrey, J. P. (Autor:in) / Graham, M. J. (Autor:in) / Yang, K. C. (Autor:in) / Lu, Z. H. (Autor:in) / Lennard, W. N. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 173 ; 318-326

Erscheinungsdatum:

01.01.2001

Format / Umfang:

9 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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