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    Titel:

    XPS and factor analysis for investigation of sputter-cleaned surfaces of metal (Re, Ir, Cr)-silicon thin films

    Beteiligte:

    Reiche, R. (Autor:in) / Oswald, S. (Autor:in) / Wetzig, K. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 179 ; 317-324

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2001

    Format / Umfang:

    8 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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