Surfactant Effect of Oxygen Atoms on Epitaxial Growth of fcc Ultra Thin Films on Cu(001): Fid-Bau Portal

Surfactant Effect of Oxygen Atoms on Epitaxial Growth of fcc Ultra Thin Films on Cu(001)

Onishi, M. / Li, L. / Torii, S. / Kida, A. / Doi, M. / Matsui, M.

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Titel:

Surfactant Effect of Oxygen Atoms on Epitaxial Growth of fcc Ultra Thin Films on Cu(001)

Beteiligte:

Onishi, M. (Autor:in) / Li, L. (Autor:in) / Torii, S. (Autor:in) / Kida, A. (Autor:in) / Doi, M. (Autor:in) / Matsui, M. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS TRANSACTIONS ; 43 ; 2143-2147

Erscheinungsdatum:

01.01.2002

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

1345-9678

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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