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Titel:

Plasma roughening of polished SiC substrates

Beteiligte:

Franz, G. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING ; 5 ; 525-527

Erscheinungsdatum:

01.01.2002

Format / Umfang:

3 pages

ISSN:

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Print

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

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