Properties of pulsed laser deposited vanadium oxide thin film thermistor: Fid-Bau Portal

Properties of pulsed laser deposited vanadium oxide thin film thermistor

kumar, R. T. / Karunagaran, B. / Mangalaraj, D. / Narayandass, S. K. / Manoravi, P. / Joseph, M.

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Titel:

Properties of pulsed laser deposited vanadium oxide thin film thermistor

Beteiligte:

kumar, R. T. (Autor:in) / Karunagaran, B. (Autor:in) / Mangalaraj, D. (Autor:in) / Narayandass, S. K. (Autor:in) / Manoravi, P. (Autor:in) / Joseph, M. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING ; 6 ; 375-377

Erscheinungsdatum:

01.01.2003

Format / Umfang:

3 pages

ISSN:

1369-8001

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.38152

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