Facile Photofabrication of Stable, Submicrometer-Wide, Electrically Conductive Patterns: Fid-Bau Portal

Facile Photofabrication of Stable, Submicrometer-Wide, Electrically Conductive Patterns

Keum, C.-D. / Fukuda, T. / Matsuda, H. / Tamada, K.

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Titel:

Facile Photofabrication of Stable, Submicrometer-Wide, Electrically Conductive Patterns

Beteiligte:

Keum, C.-D. (Autor:in) / Fukuda, T. (Autor:in) / Matsuda, H. (Autor:in) / Tamada, K. (Autor:in)

Erschienen in:

ADVANCED MATERIALS -DEERFIELD BEACH THEN WEINHEIM- ; 16 ; 696-699

Erscheinungsdatum:

01.01.2004

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0935-9648

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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