Influence of pressure and annealing on the microstructural and electro-optical properties of RF magnetron sputtered ITO thin films: Fid-Bau Portal

Influence of pressure and annealing on the microstructural and electro-optical properties of RF magnetron sputtered ITO thin films

Cruz, L. R. / Legnani, C. / Matoso, I. G. / Ferreira, C. L. / Moutinho, H. R.

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Titel:

Influence of pressure and annealing on the microstructural and electro-optical properties of RF magnetron sputtered ITO thin films

Beteiligte:

Cruz, L. R. (Autor:in) / Legnani, C. (Autor:in) / Matoso, I. G. (Autor:in) / Ferreira, C. L. (Autor:in) / Moutinho, H. R. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS RESEARCH BULLETIN ; 39 ; 993-1003

Erscheinungsdatum:

01.01.2004

Format / Umfang:

11 pages

ISSN:

0025-5408

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11 / 620

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