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    Dokumentinformationen
    Titel:

    Analytic model for ion channeling in successive implantations in crystalline silicon

    Beteiligte:

    Strauss, S. (Autor:in) / Zechner, C. (Autor:in) / Terterian, A. (Autor:in) / Gautschi, R. (Autor:in) / Erlebach, A. (Autor:in) / Scholze, A. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B -LAUSANNE- ; 124-125 ; 376-378

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2005

    Format / Umfang:

    3 pages

    ISSN:

    0921-5107

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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