Fabrication and vacuum annealing of transparent conductive Ga-doped Zn0.9Mg0.1O thin films prepared by pulsed laser deposition technique: Fid-Bau Portal

Fabrication and vacuum annealing of transparent conductive Ga-doped Zn0.9Mg0.1O thin films prepared by pulsed laser deposition technique

Chen, Z. / Fang, G. / Li, C. / Sheng, S. / Jie, G. / Zhao, X. Z.

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Titel:

Fabrication and vacuum annealing of transparent conductive Ga-doped Zn0.9Mg0.1O thin films prepared by pulsed laser deposition technique

Beteiligte:

Chen, Z. (Autor:in) / Fang, G. (Autor:in) / Li, C. (Autor:in) / Sheng, S. (Autor:in) / Jie, G. (Autor:in) / Zhao, X. Z. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 252 ; 8657-8661

Erscheinungsdatum:

01.01.2006

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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