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Atomistic simulations of hard and soft films under nanoindentation

Liu, C. L. / Fang, T. H. / Lin, J. F.

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Titel:

Atomistic simulations of hard and soft films under nanoindentation

Beteiligte:

Liu, C. L. (Autor:in) / Fang, T. H. (Autor:in) / Lin, J. F. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING A ; 452/453 ; 135-141

Erscheinungsdatum:

01.01.2007

Format / Umfang:

7 pages

ISSN:

0921-5093

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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