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Noise in boron doped amorphous/microcrystallization silicon films

Li, S. / Wu, Z. / Jiang, Y. / Li, W. / Liao, N. / Yu, J.

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Titel:

Noise in boron doped amorphous/microcrystallization silicon films

Beteiligte:

Li, S. (Autor:in) / Wu, Z. (Autor:in) / Jiang, Y. (Autor:in) / Li, W. (Autor:in) / Liao, N. (Autor:in) / Yu, J. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 254 ; 3274-3276

Erscheinungsdatum:

01.01.2008

Format / Umfang:

3 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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