The impact of implantation dose on the characteristics of diluted-magnetic nonpolar GaN:Cu films: Fid-Bau Portal

The impact of implantation dose on the characteristics of diluted-magnetic nonpolar GaN:Cu films

Sun, L. / Yan, F. / Zhang, H. / Wang, J. / Zeng, Y. / Wang, G. / Li, J.

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Titel:

The impact of implantation dose on the characteristics of diluted-magnetic nonpolar GaN:Cu films

Beteiligte:

Sun, L. (Autor:in) / Yan, F. (Autor:in) / Zhang, H. (Autor:in) / Wang, J. (Autor:in) / Zeng, Y. (Autor:in) / Wang, G. (Autor:in) / Li, J. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS LETTERS ; 63 ; 2574-2576

Erscheinungsdatum:

01.01.2009

Format / Umfang:

3 pages

ISSN:

0167-577X

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.1105 / 530

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