Modification by H-termination in growth process of titanium silicide on Si(001)-2x1 observed with scanning tunneling microscopy: Fid-Bau Portal

Modification by H-termination in growth process of titanium silicide on Si(001)-2x1 observed with scanning tunneling microscopy

Aoki, T. / Shudo, K. / Sato, K. / Ohno, S. / Nishioka, H. / Iida, T. / Toramaru, M. / Tanaka, M.

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Titel:

Modification by H-termination in growth process of titanium silicide on Si(001)-2x1 observed with scanning tunneling microscopy

Beteiligte:

Aoki, T. (Autor:in) / Shudo, K. (Autor:in) / Sato, K. (Autor:in) / Ohno, S. (Autor:in) / Nishioka, H. (Autor:in) / Iida, T. (Autor:in) / Toramaru, M. (Autor:in) / Tanaka, M. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 256 ; 1191-1195

Erscheinungsdatum:

01.01.2009

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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