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Monitoring of plasma processing chamber using ion energy analyser and time series neural network

Kim, B. / Kim, S.

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Titel:

Monitoring of plasma processing chamber using ion energy analyser and time series neural network

Beteiligte:

Kim, B. (Autor:in) / Kim, S. (Autor:in)

Erschienen in:

SURFACE ENGINEERING -LONDON- ; 26 ; 224-228

Erscheinungsdatum:

01.01.2010

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0267-0844

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.44

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