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    Dokumentinformationen
    Titel:

    Deformation Mode Construction Using Photoresist Microstructure Devices Produced with Nanoindention Technology

    Beteiligte:

    Weng, Y.J. (Autor:in) / Weng, Y.C. (Autor:in) / Liu, H.K. (Autor:in) / Chiu, L.H. (Autor:in) / Zhao, J. / Kunieda, M. / Yang, G. / Yuan, X.-M.

    Erschienen in:

    Advances in Precision Engineering ; 539-543

    KEY ENGINEERING MATERIALS ; 447/448

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2010

    Format / Umfang:

    5 pages

    ISSN:

    1013-9826

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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