Effect of Rapid Thermal Annealing Condition on the Structure and Conductivity Properties of Polycrystalline Silicon Films on Glass: Fid-Bau Portal

Effect of Rapid Thermal Annealing Condition on the Structure and Conductivity Properties of Polycrystalline Silicon Films on Glass

Wang, W.Y. / Huang, J.H. / Zhang, X.P. / Song, W.J. / Tan, R.Q.

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Titel:

Effect of Rapid Thermal Annealing Condition on the Structure and Conductivity Properties of Polycrystalline Silicon Films on Glass

Beteiligte:

Wang, W.Y. (Autor:in) / Huang, J.H. (Autor:in) / Zhang, X.P. (Autor:in) / Song, W.J. (Autor:in) / Tan, R.Q. (Autor:in) / Li, C. / Jiang, C. / Zhong, Z. / Zhou, Y.

Erschienen in:

Functional and Electronic Materials ; 634-640

MATERIALS SCIENCE FORUM ; 687

Erscheinungsdatum:

01.01.2011

Format / Umfang:

7 pages

ISSN:

0255-5476

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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