The influence of residual gas on boron carbide thin films prepared by magnetron sputtering: Fid-Bau Portal

The influence of residual gas on boron carbide thin films prepared by magnetron sputtering

Jiang, H. / Zhu, J. / Huang, Q. / Xu, J. / Wang, X. / Wang, Z. / Pfauntsch, S. / Michette, A.

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Titel:

The influence of residual gas on boron carbide thin films prepared by magnetron sputtering

Beteiligte:

Jiang, H. (Autor:in) / Zhu, J. (Autor:in) / Huang, Q. (Autor:in) / Xu, J. (Autor:in) / Wang, X. (Autor:in) / Wang, Z. (Autor:in) / Pfauntsch, S. (Autor:in) / Michette, A. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 257 ; 9946-9952

Erscheinungsdatum:

01.01.2011

Format / Umfang:

7 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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