Low temperature growth technique for nanocrystalline cuprous oxide thin films using microwave plasma oxidation of copper: Fid-Bau Portal

Low temperature growth technique for nanocrystalline cuprous oxide thin films using microwave plasma oxidation of copper

Rajani, K. V. / Daniels, S. / McGlynn, E. / Gandhiraman, R. P. / Groarke, R. / McNally, P. J.

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Titel:

Low temperature growth technique for nanocrystalline cuprous oxide thin films using microwave plasma oxidation of copper

Beteiligte:

Rajani, K. V. (Autor:in) / Daniels, S. (Autor:in) / McGlynn, E. (Autor:in) / Gandhiraman, R. P. (Autor:in) / Groarke, R. (Autor:in) / McNally, P. J. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS LETTERS ; 71 ; 160-163

Erscheinungsdatum:

01.01.2012

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0167-577X

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

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