Effect of Interface Native Oxide Layer on the Properties of Annealed Ni/SiC Contacts: Fid-Bau Portal

Effect of Interface Native Oxide Layer on the Properties of Annealed Ni/SiC Contacts

Huang, W. / Chang, S.H. / Liu, X.C. / Li, Z.Z. / Zhou, T.Y. / Zheng, Y.Q. / Yang, J.H. / Shi, E.W.

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Titel:

Effect of Interface Native Oxide Layer on the Properties of Annealed Ni/SiC Contacts

Beteiligte:

Huang, W. (Autor:in) / Chang, S.H. (Autor:in) / Liu, X.C. (Autor:in) / Li, Z.Z. (Autor:in) / Zhou, T.Y. (Autor:in) / Zheng, Y.Q. (Autor:in) / Yang, J.H. (Autor:in) / Shi, E.W. (Autor:in) / Lebedev, A.A. / Davydov, S.Y.

Erschienen in:

Silicon Carbide and Related Materials 2012 Selected, peer reviewed papers from the 9th European Conference on Silicon Carbide and Related Materials (ECSCRM 2012), September 2-6, 2012, St. Petersburg, Russian Federation ; 485-489

MATERIALS SCIENCE FORUM ; 740/742

Erscheinungsdatum:

01.01.2013

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0255-5476

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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