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    Titel:

    Preparation, characterization and application of RF sputter deposited boron doped silicon dioxide thin films

    Beteiligte:

    Tiwari, R. (Autor:in) / Chandra, S. (Autor:in) / Chakraborty, B. R. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING ; 16 ; 2013-2020

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2013

    Format / Umfang:

    8 pages

    ISSN:

    1369-8001

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.38152

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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