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    Dokumentinformationen
    Titel:

    Valence band offset and Schottky barrier at amorphous boron and boron carbide interfaces with silicon and copper

    Beteiligte:

    King, S. W. (Autor:in) / French, M. (Autor:in) / Xu, G. (Autor:in) / French, B. (Autor:in) / Jaehnig, M. (Autor:in) / Bielefeld, J. (Autor:in) / Brockman, J. (Autor:in) / Kuhn, M. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 285 ; 545-551

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2013

    Format / Umfang:

    7 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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