Atomic layer deposition of Zn1−x Mg x O:Al transparent conducting films: Fid-Bau Portal

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Atomic layer deposition of Zn1−x Mg x O:Al transparent conducting films

Luka, G. / Witkowski, B. S. / Wachnicki, L. / Goscinski, K. / Jakiela, R. / Guziewicz, E. / Godlewski, M. / Zielony, E. / Bieganski, P. / Placzek-Popko, E.

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Titel:

Atomic layer deposition of Zn1−x Mg x O:Al transparent conducting films

Beteiligte:

Luka, G. (Autor:in) / Witkowski, B. S. (Autor:in) / Wachnicki, L. (Autor:in) / Goscinski, K. (Autor:in) / Jakiela, R. (Autor:in) / Guziewicz, E. (Autor:in) / Godlewski, M. (Autor:in) / Zielony, E. (Autor:in) / Bieganski, P. (Autor:in) / Placzek-Popko, E. (Autor:in)

Erschienen in:

JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE ; 49 ; 1512-1518

Erscheinungsdatum:

01.01.2014

Format / Umfang:

7 pages

ISSN:

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Print

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

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