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Low-temperature plasma processing for Si photovoltaics

Xiao, S. Q. / Xu, S. / Ostrikov, K.

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Titel:

Low-temperature plasma processing for Si photovoltaics

Beteiligte:

Xiao, S. Q. (Autor:in) / Xu, S. (Autor:in) / Ostrikov, K. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING R REPORTS -LAUSANNE- ; 78 ; 1-29

Erscheinungsdatum:

01.01.2014

Format / Umfang:

29 pages

ISSN:

0927-796X

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.1 / 530

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