Fachinformationsdienst BAUdigital

Eine Plattform für die Wissenschaft: Bauingenieurwesen, Architektur und Urbanistik

    Effect of Al Doping Concentration on Microstructure, Photoelectric Properties and Doped Mechanism of AZO Films

    Neue Suche nach: Xu, Y.
    Neue Suche nach: Cai, Y.
    Neue Suche nach: Hou, L.
    Neue Suche nach: Ma, P.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Seitennavigation

    Dokumentinformationen
    Ähnliche Titel

    Exportieren, teilen und zitieren

    Effect of Al Doping Concentration on Microstructure, Photoelectric Properties and Doped Mechanism of AZO Films

    Neue Suche nach: Xu, Y.
    Neue Suche nach: Cai, Y.
    Neue Suche nach: Hou, L.
    Neue Suche nach: Ma, P.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Effect of Al Doping Concentration on Microstructure, Photoelectric Properties and Doped Mechanism of AZO Films

    Neue Suche nach: Xu, Y.
    Neue Suche nach: Cai, Y.
    Neue Suche nach: Hou, L.
    Neue Suche nach: Ma, P.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Seitennavigation

    Dokumentinformationen
    Ähnliche Titel

    Exportieren, teilen und zitieren

    Dokumentinformationen
    Titel:

    Effect of Al Doping Concentration on Microstructure, Photoelectric Properties and Doped Mechanism of AZO Films

    Beteiligte:

    Xu, Y. (Autor:in) / Cai, Y. (Autor:in) / Hou, L. (Autor:in) / Ma, P. (Autor:in)

    Erschienen in:

    SURFACE REVIEW AND LETTERS ; 21 ; 1450040

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2014

    Format / Umfang:

    1450040 pages

    ISSN:

    0218-625X

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  530.417

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

    Ähnliche Titel

    Microstructure and Photoelectric Properties of ITO Thin Films

    Shengnan, Z. / Jiaxiang, L. / Nan, Z. | British Library Online Contents | 2007

    Influence of doping and microstructure on electrical properties of doped silicon thin films

    Lu, Y. / Li, H. / Yang, G. et al. | British Library Online Contents | 2015

    Effect of doping concentration on the properties of bismuth doped tin sulfide thin films prepared by spray pyrolysis

    Manohari, A. G. / Dhanapandian, S. / Manoharan, C. et al. | British Library Online Contents | 2014

    Investigation of effect of doping concentration in Nb-doped TiO2 thin films for TCO applications

    Singh, S. / Sharma, V. / Sachdev, K. | British Library Online Contents | 2017

    Effect of Ni doping on the microstructure and magnetic properties of FePt films

    Dong, K. / Cheng, X. / Yan, J. et al. | British Library Online Contents | 2009

    Nach oben