Low-temperature preparation of high-n TiO2 thin film on glass by pulsed laser deposition: Fid-Bau Portal

Low-temperature preparation of high-n TiO2 thin film on glass by pulsed laser deposition

Ishii, A. / Nakamura, Y. / Oikawa, I. / Kamegawa, A. / Takamura, H.

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Titel:

Low-temperature preparation of high-n TiO2 thin film on glass by pulsed laser deposition

Beteiligte:

Ishii, A. (Autor:in) / Nakamura, Y. (Autor:in) / Oikawa, I. (Autor:in) / Kamegawa, A. (Autor:in) / Takamura, H. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 347 ; 528-534

Erscheinungsdatum:

01.01.2015

Format / Umfang:

7 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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