RF plasma enhanced MOCVD of yttria stabilized zirconia thin films using octanedionate precursors and their characterization: Fid-Bau Portal

RF plasma enhanced MOCVD of yttria stabilized zirconia thin films using octanedionate precursors and their characterization

Chopade, S. S. / Nayak, C. / Bhattacharyya, D. / Jha, S. N. / Tokas, R. B. / Sahoo, N. K. / Deo, M. N. / Biswas, A. / Rai, S. / Thulasi Raman, K. H.

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Titel:

RF plasma enhanced MOCVD of yttria stabilized zirconia thin films using octanedionate precursors and their characterization

Beteiligte:

Chopade, S. S. (Autor:in) / Nayak, C. (Autor:in) / Bhattacharyya, D. (Autor:in) / Jha, S. N. (Autor:in) / Tokas, R. B. (Autor:in) / Sahoo, N. K. (Autor:in) / Deo, M. N. (Autor:in) / Biswas, A. (Autor:in) / Rai, S. (Autor:in) / Thulasi Raman, K. H. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 355 ; 82-92

Erscheinungsdatum:

01.01.2015

Format / Umfang:

11 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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