Characteristics of atomic layer deposited transparent aluminum-doped zinc oxide thin films at low temperature: Fid-Bau Portal

Characteristics of atomic layer deposited transparent aluminum-doped zinc oxide thin films at low temperature

Zhao, F. L. / Dong, J. C. / Zhao, N. N. / Wu, J. / Han, D. D. / Kang, J. F. / Wang, Y.

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Titel:

Characteristics of atomic layer deposited transparent aluminum-doped zinc oxide thin films at low temperature

Beteiligte:

Zhao, F. L. (Autor:in) / Dong, J. C. (Autor:in) / Zhao, N. N. (Autor:in) / Wu, J. (Autor:in) / Han, D. D. (Autor:in) / Kang, J. F. (Autor:in) / Wang, Y. (Autor:in)

Erschienen in:

RARE METALS -BEIJING- ENGLISH EDITION ; 35 ; 509-512

Erscheinungsdatum:

01.01.2016

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

1001-0521

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 669

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