Orientation dependent Ti diffusion in YNMO/STO thin films deposited by pulsed laser deposition: Fid-Bau Portal

Orientation dependent Ti diffusion in YNMO/STO thin films deposited by pulsed laser deposition

Coy, L.E. / Yate, L. / Ventura, J. / Załęski, K. / Tadyszak, K. / Ferrater, C. / Polo, M.C. / Varela, M.

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Titel:

Orientation dependent Ti diffusion in YNMO/STO thin films deposited by pulsed laser deposition

Beteiligte:

Coy, L.E. (Autor:in) / Yate, L. (Autor:in) / Ventura, J. (Autor:in) / Załęski, K. (Autor:in) / Tadyszak, K. (Autor:in) / Ferrater, C. (Autor:in) / Polo, M.C. (Autor:in) / Varela, M. (Autor:in)

Erschienen in:

Applied surface science ; 387 ; 864-868

Erscheinungsdatum:

01.01.2016

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.44

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