Influence of annealing temperature on nickel oxide thin films grown by chemical bath deposition: Fid-Bau Portal

Influence of annealing temperature on nickel oxide thin films grown by chemical bath deposition

Martínez-Gil, M. / Pintor-Monroy, M.I. / Cota-Leal, M. / Cabrera-German, D. / Garzon-Fontecha, A. / Quevedo-López, M.A. / Sotelo-Lerma, M.

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Titel:

Influence of annealing temperature on nickel oxide thin films grown by chemical bath deposition

Beteiligte:

Martínez-Gil, M. (Autor:in) / Pintor-Monroy, M.I. (Autor:in) / Cota-Leal, M. (Autor:in) / Cabrera-German, D. (Autor:in) / Garzon-Fontecha, A. (Autor:in) / Quevedo-López, M.A. (Autor:in) / Sotelo-Lerma, M. (Autor:in)

Erschienen in:

Materials science in semiconductor processing ; 72 ; 37-45

Erscheinungsdatum:

01.01.2017

Format / Umfang:

9 pages

ISSN:

1369-8001

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.38152

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