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OXIDE SINTERED BODY AND SPUTTERING TARGET
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an In-Ga-Zn oxide sintered body allowing stable sputtering.SOLUTION: An oxide sintered body contains an InOphase and a homologous phase of formula InGaZnO(m is 0.5 or an integer of 1 or greater), and the InOphase contains one or more elements X's selected from Hf, Zr, Ti, Y, Ge, Ta, Nb and lanthanoids and has a number of 10-μm-or-longer twin crystal cracks of one or smaller in the 40×25 μm visual field and a relative density of 95% or higher, and the average grain sizes of the InOphase and the homologous phase are 10 μm or smaller.
【課題】安定したスパッタリングができるＩｎ−Ｇａ−Ｚｎ酸化物焼結体を提供する。【解決手段】Ｉｎ２Ｏ３相と、ＩｎＧａＺｎｍＯ３＋ｍ（ｍは、０．５又は１以上の整数）で表されるホモロガス相を含有し、上記Ｉｎ２Ｏ３相が、Ｈｆ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｙ、Ｇｅ、Ｔａ、Ｎｂ及びランタノイド元素からなる群より選択される１以上の元素Ｘを含有し、長さ１０μｍ以上の双晶割れの個数が４０?２５μｍ四方の視野中に１個以下であり、相対密度が９５％以上であり、上記Ｉｎ２Ｏ３相及びホモロガス相の平均粒子径が、１０μｍ以下であることを特徴とする酸化物焼結体。【選択図】なし
OXIDE SINTERED BODY AND SPUTTERING TARGET
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an In-Ga-Zn oxide sintered body allowing stable sputtering.SOLUTION: An oxide sintered body contains an InOphase and a homologous phase of formula InGaZnO(m is 0.5 or an integer of 1 or greater), and the InOphase contains one or more elements X's selected from Hf, Zr, Ti, Y, Ge, Ta, Nb and lanthanoids and has a number of 10-μm-or-longer twin crystal cracks of one or smaller in the 40×25 μm visual field and a relative density of 95% or higher, and the average grain sizes of the InOphase and the homologous phase are 10 μm or smaller.
【課題】安定したスパッタリングができるＩｎ−Ｇａ−Ｚｎ酸化物焼結体を提供する。【解決手段】Ｉｎ２Ｏ３相と、ＩｎＧａＺｎｍＯ３＋ｍ（ｍは、０．５又は１以上の整数）で表されるホモロガス相を含有し、上記Ｉｎ２Ｏ３相が、Ｈｆ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｙ、Ｇｅ、Ｔａ、Ｎｂ及びランタノイド元素からなる群より選択される１以上の元素Ｘを含有し、長さ１０μｍ以上の双晶割れの個数が４０?２５μｍ四方の視野中に１個以下であり、相対密度が９５％以上であり、上記Ｉｎ２Ｏ３相及びホモロガス相の平均粒子径が、１０μｍ以下であることを特徴とする酸化物焼結体。【選択図】なし
OXIDE SINTERED BODY AND SPUTTERING TARGET
酸化物焼結体及びスパッタリングターゲット
UTSUNO FUTOSHI (Autor:in) / TERAI KOTA (Autor:in)
02.11.2015
Patent
Elektronische Ressource
Japanisch
OXIDE SINTERED BODY AND SPUTTERING TARGET COMPRISING OXIDE SINTERED BODY
| Europäisches Patentamt | 2017
OXIDE SINTERED BODY AND SPUTTERING TARGET COMPRISING OXIDE SINTERED BODY
| Europäisches Patentamt | 2016
OXIDE SINTERED BODY AND SPUTTERING TARGET COMPRISING OXIDE SINTERED BODY
Europäisches Patentamt | 2018