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REFRACTORY AND PRODUCTION PROCESS THEREFOR
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a refractory having a dimensional stability usable in a high temperature environment exceeding 1300°C, that is useful as a core or the like used in the lost wax precision casting process and production process therefor.SOLUTION: The present invention provides a refractory 1; said refractory 1 comprises a sintered body 2 in which a ceramic particle 3, and a ceramic fine particle 4 having an average particle size smaller than the ceramic particle 3, are sintered, and an unsintered particle 5 which consists of a ceramic arranged in a pore 5 of the sintered body 2 in an unsintered state; and the ceramic fine particle 4 is characterized by having an average particle size of 500 nm or less.SELECTED DRAWING: Figure 1
【課題】ロストワックス精密鋳造法に用いる中子等として有用な、1300℃を超える高温環境で使用し得る寸法安定性を備える耐火物とその製造方法を提供する。【解決手段】本発明により耐火物1が提供される。かかる耐火物1は、セラミック粒子3と、該セラミック粒子3よりも平均粒子径が小さいセラミック微小粒子4とが焼結されてなる焼結体2と、焼結体2の気孔5に未焼結の状態で配置されたセラミックからなる未焼結粒子5と、を含む。そしてセラミック微小粒子4は、平均粒子径が500nm以下であることを特徴としている。【選択図】図1
REFRACTORY AND PRODUCTION PROCESS THEREFOR
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a refractory having a dimensional stability usable in a high temperature environment exceeding 1300°C, that is useful as a core or the like used in the lost wax precision casting process and production process therefor.SOLUTION: The present invention provides a refractory 1; said refractory 1 comprises a sintered body 2 in which a ceramic particle 3, and a ceramic fine particle 4 having an average particle size smaller than the ceramic particle 3, are sintered, and an unsintered particle 5 which consists of a ceramic arranged in a pore 5 of the sintered body 2 in an unsintered state; and the ceramic fine particle 4 is characterized by having an average particle size of 500 nm or less.SELECTED DRAWING: Figure 1
【課題】ロストワックス精密鋳造法に用いる中子等として有用な、1300℃を超える高温環境で使用し得る寸法安定性を備える耐火物とその製造方法を提供する。【解決手段】本発明により耐火物1が提供される。かかる耐火物1は、セラミック粒子3と、該セラミック粒子3よりも平均粒子径が小さいセラミック微小粒子4とが焼結されてなる焼結体2と、焼結体2の気孔5に未焼結の状態で配置されたセラミックからなる未焼結粒子5と、を含む。そしてセラミック微小粒子4は、平均粒子径が500nm以下であることを特徴としている。【選択図】図1
REFRACTORY AND PRODUCTION PROCESS THEREFOR
耐火物とその製造方法
INUKAI HIROYUKI (Autor:in) / ITO YUSUKE (Autor:in)
12.05.2016
Patent
Elektronische Ressource
Japanisch
IPC:
C04B
Kalk
,
LIME
GRAPHITE CONTAINED CASTABLE REFRACTORY AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
Europäisches Patentamt | 2021
|MONOLITHIC REFRACTORY AND CONSTRUCTION METHOD THEREFOR
Europäisches Patentamt | 2018
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