Eine Plattform für die Wissenschaft: Bauingenieurwesen, Architektur und Urbanistik
Eine Plattform für die Wissenschaft: Bauingenieurwesen, Architektur und Urbanistik
ION ASSISTED VAPOR DEPOSITION FOR RARE EARTH OXIDE BASED THIN FILM COATING ON PROCESS RING
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a chamber processing ring having a thin film plasma resistant protective layer.SOLUTION: A ring 505 having a plasma resistant thin film protective layer 510 increases the life of the ring and reduces defects on a wafer without affecting plasma uniformity. The protective layer can have a thickness of up to about 300 μm. Plasma corrosion resistance can be provided to protect the ring. The protective layer can be formed on the ring using ion-assisted deposition (IAD).SELECTED DRAWING: Figure 5
【課題】薄膜の耐プラズマ性保護層を有するチャンバプロセスリングを提供する。【解決手段】耐プラズマ性薄膜保護層５１０を有するリング５０５を提供し、これによってリングの寿命を高め、プラズマの均一性に影響を与えることなくウェハ上の欠陥を低減する。保護層は、最大約３００μｍの厚さを有することができ、リングを保護するためにプラズマ耐食性を提供することができ、イオンアシスト蒸着（ＩＡＤ）を用いてリング上に形成することができる。【選択図】図５
ION ASSISTED VAPOR DEPOSITION FOR RARE EARTH OXIDE BASED THIN FILM COATING ON PROCESS RING
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a chamber processing ring having a thin film plasma resistant protective layer.SOLUTION: A ring 505 having a plasma resistant thin film protective layer 510 increases the life of the ring and reduces defects on a wafer without affecting plasma uniformity. The protective layer can have a thickness of up to about 300 μm. Plasma corrosion resistance can be provided to protect the ring. The protective layer can be formed on the ring using ion-assisted deposition (IAD).SELECTED DRAWING: Figure 5
【課題】薄膜の耐プラズマ性保護層を有するチャンバプロセスリングを提供する。【解決手段】耐プラズマ性薄膜保護層５１０を有するリング５０５を提供し、これによってリングの寿命を高め、プラズマの均一性に影響を与えることなくウェハ上の欠陥を低減する。保護層は、最大約３００μｍの厚さを有することができ、リングを保護するためにプラズマ耐食性を提供することができ、イオンアシスト蒸着（ＩＡＤ）を用いてリング上に形成することができる。【選択図】図５
ION ASSISTED VAPOR DEPOSITION FOR RARE EARTH OXIDE BASED THIN FILM COATING ON PROCESS RING
プロセスリング上の希土類酸化物系薄膜コーティング用イオンアシスト蒸着
JENNIFER Y SUN (Autor:in) / BIRAJA P KANUNGO (Autor:in) / VAHID FIROUZDOR (Autor:in) / ZHANG YING (Autor:in)
17.05.2018
Patent
Elektronische Ressource
Japanisch
ION ASSISTED DEPOSITION FOR RARE-EARTH OXIDE BASED COATINGS ON LIDS AND NOZZLES
| Europäisches Patentamt | 2020
ION ASSISTED DEPOSITION FOR RARE-EARTH OXIDE BASED COATINGS ON LIDS AND NOZZLES
| Europäisches Patentamt | 2018
ION ASSISTED DEPOSITION FOR RARE-EARTH OXIDE BASED COATINGS ON LIDS AND NOZZLES
| Europäisches Patentamt | 2021