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METHOD FOR PROCESSING CERAMIC SUBSTRATE AND CERAMIC SUBSTRATE
To provide a method for processing a ceramic substrate, capable of easily forming a colored portion on the ceramic substrate, and to provide the ceramic substrate.SOLUTION: A ceramic substrate 111 has a ceramic part 112 containing Al2O3. A method for processing the ceramic substrate 111 includes an emission step of emitting a laser beam LB onto a portion of a main surface of the ceramic part 112. In the method for processing the ceramic substrate 111, a colored portion is formed by the emission step.SELECTED DRAWING: Figure 3
【課題】セラミックス基板に着色部を容易に形成することのできるセラミックス基板の加工方法、及びセラミックス基板を提供する。【解決手段】セラミックス基板１１１は、Ａｌ２Ｏ３を含有するセラミックス部１１２を有する。セラミックス基板１１１の加工方法は、セラミックス部１１２の主面の一部にレーザー光ＬＢを照射する照射工程を備える。セラミックス基板１１１の加工方法では、照射工程により着色部を形成する。【選択図】図３
METHOD FOR PROCESSING CERAMIC SUBSTRATE AND CERAMIC SUBSTRATE
To provide a method for processing a ceramic substrate, capable of easily forming a colored portion on the ceramic substrate, and to provide the ceramic substrate.SOLUTION: A ceramic substrate 111 has a ceramic part 112 containing Al2O3. A method for processing the ceramic substrate 111 includes an emission step of emitting a laser beam LB onto a portion of a main surface of the ceramic part 112. In the method for processing the ceramic substrate 111, a colored portion is formed by the emission step.SELECTED DRAWING: Figure 3
【課題】セラミックス基板に着色部を容易に形成することのできるセラミックス基板の加工方法、及びセラミックス基板を提供する。【解決手段】セラミックス基板１１１は、Ａｌ２Ｏ３を含有するセラミックス部１１２を有する。セラミックス基板１１１の加工方法は、セラミックス部１１２の主面の一部にレーザー光ＬＢを照射する照射工程を備える。セラミックス基板１１１の加工方法では、照射工程により着色部を形成する。【選択図】図３
METHOD FOR PROCESSING CERAMIC SUBSTRATE AND CERAMIC SUBSTRATE
セラミックス基板の加工方法、及びセラミックス基板
TAGUSARI MITSURIKI (Autor:in)
24.05.2023
Patent
Elektronische Ressource
Japanisch
Ceramic substrate processing method and ceramic substrate
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METHOD FOR PROCESSING CERAMIC SUBSTRATE AND CERAMIC SUBSTRATE
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