Eine Plattform für die Wissenschaft: Bauingenieurwesen, Architektur und Urbanistik
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FLUORINE-CONTAINING YTTRIUM SINTERED COMPACT AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
To provide at least one of a film-forming material for a yttrium oxyfluoride film and a method for producing the same, a sputtering target, and a method for producing a substrate with a yttrium oxyfluoride film, which enables the formation of a yttrium oxyfluoride film by a sputtering method using DC discharge without requiring fluorine gas.SOLUTION: A fluorine-containing yttrium sintered compact of the invention has a composition having a fluorine content of 10 mass% or more and 30 mass% or less and a yttrium content of 70 mass% or more and 90 mass% or less, has a relative density of 90% or more and comprises a crystalline phase containing a Y phase and a YF3 phase.SELECTED DRAWING: None
【課題】フッ素ガスを必須とすることなく、ＤＣ放電を用いたスパッタリング法によるオキシフッ化イットリウム膜の成膜が可能である、オキシフッ化イットリウム膜の成膜材料及びその製造方法、スパッタリングターゲット及びオキシフッ化イットリウム膜付き基板の製造方法の少なくともいずれかを提供する。【解決手段】フッ素の含有量が１０質量％以上３０質量％以下、イットリウムの含有量が７０質量％以上９０質量％以下である組成を有し、相対密度が９０％以上であり、なおかつ、Ｙ相及びＹＦ３相を含む結晶相からなるフッ素含有イットリウム焼結体。【選択図】 なし
FLUORINE-CONTAINING YTTRIUM SINTERED COMPACT AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
To provide at least one of a film-forming material for a yttrium oxyfluoride film and a method for producing the same, a sputtering target, and a method for producing a substrate with a yttrium oxyfluoride film, which enables the formation of a yttrium oxyfluoride film by a sputtering method using DC discharge without requiring fluorine gas.SOLUTION: A fluorine-containing yttrium sintered compact of the invention has a composition having a fluorine content of 10 mass% or more and 30 mass% or less and a yttrium content of 70 mass% or more and 90 mass% or less, has a relative density of 90% or more and comprises a crystalline phase containing a Y phase and a YF3 phase.SELECTED DRAWING: None
【課題】フッ素ガスを必須とすることなく、ＤＣ放電を用いたスパッタリング法によるオキシフッ化イットリウム膜の成膜が可能である、オキシフッ化イットリウム膜の成膜材料及びその製造方法、スパッタリングターゲット及びオキシフッ化イットリウム膜付き基板の製造方法の少なくともいずれかを提供する。【解決手段】フッ素の含有量が１０質量％以上３０質量％以下、イットリウムの含有量が７０質量％以上９０質量％以下である組成を有し、相対密度が９０％以上であり、なおかつ、Ｙ相及びＹＦ３相を含む結晶相からなるフッ素含有イットリウム焼結体。【選択図】 なし
FLUORINE-CONTAINING YTTRIUM SINTERED COMPACT AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
フッ素含有イットリウム焼結体及びその製造方法
HARA HIROYUKI (Autor:in) / MATSUNAGA OSAMU (Autor:in) / MESHIDA MASAMI (Autor:in)
21.11.2024
Patent
Elektronische Ressource
Japanisch
METHOD FOR PRODUCING SINTERED COMPACT AND SINTERED COMPACT
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Sintered compact, circuit component, and method of producing sintered compact
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SINTERED COMPACT SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCING SINTERED COMPACT
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