Eine Plattform für die Wissenschaft: Bauingenieurwesen, Architektur und Urbanistik
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METHODS FOR MANUFACTURING PANELS
본 발명은, 적어도 기판 (2) 과, 상기 기판 (2) 에 제공되는 무늬를 가진 상부층 (3) 을 포함하는 형태의 코팅 패널 (1) 을 제조하는 방법에 관한 것으로서, 상부층 (3) 을 실현하는 방법은, 합성 재료층 (7) 이 상기 기판 (2) 위에 제공되는 제 1 단계 (S4) 및 상기 합성 재료층 (7) 의 표면에 양각을 형성하는 후속의 제 2 단계의 적어도 2 단계를 포함하고, 상기 양각은 오목부 (13) 및/또는 돌출부 (14) 의 패턴을 포함하고, 상기 패턴은 하나 이상의 인쇄 (6) 에 의해 적어도 부분적으로 결정된다.
A method for manufacturing coated panels (1) of the type comprising at least a substrate (2) and a top layer (3) with a motif, said top layer being provided on said substrate (2), wherein the method for manufacturing the top layer (3) comprises at least two steps, namely, a first step (S4), in which a synthetic material layer (7) is provided on the substrate (2), and a second subsequent step (S5), in which a relief is provided on the surface of said synthetic material layer (7), wherein said relief comprises a pattern of recesses (13) and/or projections (14), wherein this relief is obtained by providing a mask (22) on or in said synthetic material layer (7) wherein this mask enables a selective treatment of the synthetic material layer and subsequently performing a material-removing or material-depositing treatment on said synthetic material layer (7), wherein said mask (22) at least partially determines said pattern.
METHODS FOR MANUFACTURING PANELS
본 발명은, 적어도 기판 (2) 과, 상기 기판 (2) 에 제공되는 무늬를 가진 상부층 (3) 을 포함하는 형태의 코팅 패널 (1) 을 제조하는 방법에 관한 것으로서, 상부층 (3) 을 실현하는 방법은, 합성 재료층 (7) 이 상기 기판 (2) 위에 제공되는 제 1 단계 (S4) 및 상기 합성 재료층 (7) 의 표면에 양각을 형성하는 후속의 제 2 단계의 적어도 2 단계를 포함하고, 상기 양각은 오목부 (13) 및/또는 돌출부 (14) 의 패턴을 포함하고, 상기 패턴은 하나 이상의 인쇄 (6) 에 의해 적어도 부분적으로 결정된다.
A method for manufacturing coated panels (1) of the type comprising at least a substrate (2) and a top layer (3) with a motif, said top layer being provided on said substrate (2), wherein the method for manufacturing the top layer (3) comprises at least two steps, namely, a first step (S4), in which a synthetic material layer (7) is provided on the substrate (2), and a second subsequent step (S5), in which a relief is provided on the surface of said synthetic material layer (7), wherein said relief comprises a pattern of recesses (13) and/or projections (14), wherein this relief is obtained by providing a mask (22) on or in said synthetic material layer (7) wherein this mask enables a selective treatment of the synthetic material layer and subsequently performing a material-removing or material-depositing treatment on said synthetic material layer (7), wherein said mask (22) at least partially determines said pattern.
METHODS FOR MANUFACTURING PANELS
패널 제조 방법
13.06.2016
Patent
Elektronische Ressource
Koreanisch