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DENSIFICATION METHOD OF PLASMA RESISTANT COATING LAYER USING LASER SINTERING
본 발명의 일 관점에 따르면, (a) 표면에 이트륨 옥사이드(Y2O3), 불화이트륨(YF3) 또는 불산화이트륨(YOF) 코팅막이 형성된 모재를 준비하는 단계 및 (b) 상기 모재를 탈이온수에 담지하여 상기 이트륨 옥사이드(Y2O3)를 레이저 소결하는 단계를 포함하는 내플라즈마 코팅막 치밀화 방법, 또는 (a) 이트륨 화합물을 함유하는 용액 내에 담지된 모재 표면에 이트륨 옥사이드(Y2O3)를 형성하는 단계 및 (b) 상기 용액에 F- 이온 함유 물질을 첨가하고, 상기 이트륨 옥사이드(Y2O3)를 레이저 소결하는 단계를 포함하는 내플라즈마 코팅막 치밀화 방법이 제공된다.
DENSIFICATION METHOD OF PLASMA RESISTANT COATING LAYER USING LASER SINTERING
본 발명의 일 관점에 따르면, (a) 표면에 이트륨 옥사이드(Y2O3), 불화이트륨(YF3) 또는 불산화이트륨(YOF) 코팅막이 형성된 모재를 준비하는 단계 및 (b) 상기 모재를 탈이온수에 담지하여 상기 이트륨 옥사이드(Y2O3)를 레이저 소결하는 단계를 포함하는 내플라즈마 코팅막 치밀화 방법, 또는 (a) 이트륨 화합물을 함유하는 용액 내에 담지된 모재 표면에 이트륨 옥사이드(Y2O3)를 형성하는 단계 및 (b) 상기 용액에 F- 이온 함유 물질을 첨가하고, 상기 이트륨 옥사이드(Y2O3)를 레이저 소결하는 단계를 포함하는 내플라즈마 코팅막 치밀화 방법이 제공된다.
DENSIFICATION METHOD OF PLASMA RESISTANT COATING LAYER USING LASER SINTERING
레이저 소결을 이용한 내플라즈마 코팅막 치밀화 방법
08.02.2023
Patent
Elektronische Ressource
Koreanisch
DENSIFICATION METHOD OF PLASMA RESISTANT COATING LAYER USING LASER SINTERING
Europäisches Patentamt | 2022
|Densification of Al~2O~3 powder using spark plasma sintering
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